反应溅射VN/SiO2纳米多层膜的微结构与力学性能

• 作者: 孔明 岳建岭 李戈扬 赵文济
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: VN/SiO2纳米多层膜 共格外延生长 非晶晶化 超硬效应
• 年，卷（期）: 2007,（3）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 1568-1573
• 页数: 6页
• 分类号: O3
• 字数: 5327字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.03.055

摘要

采用 V 和 SiO2 靶通过反应溅射方法制备了一系列具有不同 SiO2 和 VN 调制层厚的 VN/SiO2 纳米多层膜.利用X射线衍射、X射线能量色散谱、高分辨电子显微镜和微力学探针表征了多层膜的微结构和力学性能.结果表明:在Ar,N2混和气体中,射频反应溅射的SiO2薄膜不会渗氮.单层膜时以非晶态存在的SiO2,当其厚度小于1 nm时,在多层膜中因VN晶体层的模板效应被强制晶化,并与VN层形成共格外延生长.相应地,多层膜的硬度得到明显提高,最高硬度达34 GPa.随SiO2层厚度的进一步增加,SiO2层逐渐转变为非晶态,破坏了与VN层的共格外延生长结构,多层膜硬度也随之降低.VN调制层的改变对多层膜的生长结构和力学性能也有影响,但并不明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孔明	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	19	194	8.0	13.0
2	李戈扬	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	109	1036	18.0	25.0
3	岳建岭	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	4	30	4.0	4.0
4	赵文济	上海交通大学金属基复合材料国家重点实验室	10	86	6.0	9.0