脉冲偏压电弧离子镀TiO2薄膜的力学与光学性能

• 作者: 张敏 林国强 董闯 闻立时
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 脉冲偏压电弧离子镀 硬度 折射率
• 年，卷（期）: 2007,（12）
• 所属期刊栏目: 物理学交叉学科及有关科学技术领域
• 页码范围: 7300-7308
• 页数: 9页
• 分类号: O4
• 字数: 5860字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.12.081

摘要

用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃基片上制备均匀透明的TiO2薄膜.利用X射线衍射仪、原子力显微镜、扫描电子显微镜、紫外-可见透射光谱仪和纳米压痕仪等手段,对不同脉冲负偏压下合成薄膜的相结构、微观结构、表面形貌、力学和光学性能进行表征.结果表明,沉积态薄膜为非晶态.脉冲负偏压对薄膜性能有明显的影响.随偏压的增加,薄膜厚度、硬度和弹性模量均先增大后减小,前者峰值出现在100-200 V负偏压范围,后两者则在250-350 V范围.300 V负偏压时薄膜硬度最高,薄膜达到原子级表面光滑度,均方根粗糙度为0.113 nm,薄膜折射率也最高,对波长为550 nm光的折射率达到已有报道的最高值(2.51).同时,对脉冲负偏压影响薄膜性能的机理进行了分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董闯	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	198	2023	23.0	34.0
2	林国强	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	59	562	13.0	21.0
3	张敏	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	44	405	11.0	19.0
4	闻立时	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	10	154	8.0	10.0