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摘要:
研究了原生和高温退火处理后非掺n型和半绝缘InP单晶材料中产生的缺陷.在磷气氛下退火后,n 型和半绝缘InP单晶中均明显产生相当数量的深能级缺陷,而在磷化铁气氛下退火后,InP的缺陷数量明显减少.在退火过程中缺陷的产生与磷和铁的内扩散有直接关系.向内扩散的磷原子和铁原子占据晶格中铟位后,分别产生反位缺陷和铁深受主.实验结果表明,铁通过扩散充分占据了铟位,抑制了铟空位、磷反位等缺陷的形成,而磷气氛下退火后产生的缺陷有铟空位、磷反位等.对InP中的缺陷属性进行了分析.
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 InP 中深能级缺陷的产生与抑制现象
来源期刊 物理学报 学科 物理学
关键词 磷化铟 退火 缺陷
年,卷(期) 2007,(3) 所属期刊栏目 凝聚物质:结构、热学和力学性质
研究方向 页码范围 1476-1479
页数 4页 分类号 O4
字数 2748字 语种 中文
DOI 10.3321/j.issn:1000-3290.2007.03.040
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 赵有文 中国科学院半导体研究所 42 217 7.0 11.0
2 董志远 中国科学院半导体研究所 25 154 7.0 11.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
磷化铟
退火
缺陷
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
半月刊
1000-3290
11-1958/O4
大16开
北京603信箱
2-425
1933
chi
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