原文服务方: 现代电子技术       
摘要:
以500 V VDMOS为例,首先分析了高压VDMOS导通电阻与电压的关系,重点讨论穿通型VDMOS的外延厚度与器件的耐压和导通电阻的关系.给出对高压VDMOS外延层厚度的优化方案,并基于理论分析在器件仿真设计软件平台上成功完成了耐压500 V、导通电阻0.85 Ω的功率VDMOS器件的设计和仿真.
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文献信息
篇名 高压VDMOSFET导通电阻的优化设计
来源期刊 现代电子技术 学科
关键词 VDMOS 穿通型VDMOS 优化外延层 导通电阻
年,卷(期) 2007,(16) 所属期刊栏目 数字/模拟电路
研究方向 页码范围 174-176
页数 3页 分类号 TP451
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1004-373X.2007.16.058
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 白朝辉 5 33 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
VDMOS
穿通型VDMOS
优化外延层
导通电阻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
现代电子技术
半月刊
1004-373X
61-1224/TN
大16开
1977-01-01
chi
出版文献量(篇)
23937
总下载数(次)
0
总被引数(次)
135074
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