原文服务方: 科技与创新       
摘要:
本文阐述了石英晶片真空蒸发镀膜测控的基本原理和镀膜过程中石英晶片谐振频率变化与镀膜厚度之间的关系.主要研究了以W77E516单片机为核心,配合其它相关芯片完成石英晶片真空蒸发镀膜过程测控系统的工作原理和实现方案,重点阐述了该系统的硬件设计和软件设计方法.
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干扰源
抗干扰
硬件
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 基于单片机的石英晶片镀膜测控系统设计
来源期刊 科技与创新 学科
关键词 石英晶片 谐振频率 蒸发镀膜
年,卷(期) 2007,(11) 所属期刊栏目 单片机开发与应用
研究方向 页码范围 131-133
页数 3页 分类号 TH752.2
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1008-0570.2007.11.051
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研究主题发展历程
节点文献
石英晶片
谐振频率
蒸发镀膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
科技与创新
半月刊
2095-6835
14-1369/N
大16开
2014-01-01
chi
出版文献量(篇)
41653
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202805
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