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电工材料 期刊
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ITO靶材的研究与发展
ITO靶材的研究与发展
作者:
于杰
杜晔平
阮进
陈敬超
原文服务方:
电工材料
铟(In)
ITO(铟锡氧化物)靶材
制备方法
摘要:
简要介绍了铟(In)的用途及国内铟产业的现状.重点介绍了国内外ITO(铟锡氧化物)靶材的研究现状、主要制备方法(热等静压法、热压法和烧结法)及发展趋势.
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ITO靶材
微波烧结
相对密度
大尺寸高密度ITO靶材烧结初期致密化过程研究
ITO
靶材
烧结法
致密化过程
烧结工艺对ITO靶材致密度与电阻率的影响
烧结温度
升温速率
烧结时间
气氛压力
电阻率
靶材密度对射频磁控溅射法制备ITO薄膜性能的影响
氧化锡铟(ITO)
靶材密度
薄膜
射频磁控溅射
内容分析
文献信息
版权信息
引文网络
相关学者/机构
相关基金
期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
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(/年)
文献信息
篇名
ITO靶材的研究与发展
来源期刊
电工材料
学科
关键词
铟(In)
ITO(铟锡氧化物)靶材
制备方法
年,卷(期)
2008,(2)
所属期刊栏目
综述·动态
研究方向
页码范围
35-37,42
页数
4页
分类号
TM205.1
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-8887.2008.02.009
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
陈敬超
昆明理工大学稀贵及有色金属先进材料教育部重点实验室云南省新材料制备与加工重点实验室
178
1833
21.0
34.0
2
于杰
昆明理工大学材料与冶金工程学院
68
352
12.0
16.0
3
杜晔平
昆明理工大学稀贵及有色金属先进材料教育部重点实验室云南省新材料制备与加工重点实验室
9
79
6.0
8.0
4
阮进
昆明理工大学稀贵及有色金属先进材料教育部重点实验室云南省新材料制备与加工重点实验室
3
29
3.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
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版权信息
全文
全文.pdf
引文网络
引文网络
二级参考文献
(83)
共引文献
(111)
参考文献
(14)
节点文献
引证文献
(14)
同被引文献
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二级引证文献
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参考文献(0)
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参考文献(0)
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参考文献(0)
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二级引证文献(2)
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二级引证文献(1)
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2017(3)
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2018(4)
引证文献(2)
二级引证文献(2)
2019(16)
引证文献(0)
二级引证文献(16)
2020(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
铟(In)
ITO(铟锡氧化物)靶材
制备方法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电工材料
主办单位:
桂林电器科学研究院有限公司
出版周期:
双月刊
ISSN:
1671-8887
CN:
45-1288/TG
开本:
大16开
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
1973-01-01
语种:
chi
出版文献量(篇)
1336
总下载数(次)
0
总被引数(次)
5113
相关基金
国家重点基础研究发展计划(973计划)
英文译名:
National Basic Research Program of China
官方网址:
http://www.973.gov.cn/
项目类型:
学科类型:
农业
期刊文献
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