RF溅射钕掺杂ZnO薄膜工艺与结构研究

• 作者: 文军 潘峰 陈长乐
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: Nd掺杂 ZnO薄膜 X射线衍射分析 原子力显微镜 射频磁控溅射
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 761-763
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1|TN304
• 字数: 3186字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.05.017

摘要

通过射频磁控溅射技术在Si(111)衬底上制备了未掺杂和Nd掺杂ZnO薄膜,研究了衬底温度、氧分压以及Nd不同掺杂浓度等工艺参数对薄膜的影响.薄膜的结构和表面形貌通过XRD分析和AFM观测,表明制备的薄膜为ZnO:Nd纳米多晶薄膜,其表面形貌粗糙,不同沉积条件对薄膜生长有很大的影响.在纯氩气氛中、衬底温度为300℃的条件下,ZnO:Nd薄膜具有c轴择优取向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈长乐	西北工业大学理学院应用物理系	144	734	13.0	20.0
2	潘峰	西北工业大学理学院应用物理系	11	35	4.0	5.0
4	文军	西北工业大学理学院应用物理系	39	136	7.0	9.0