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国产首台直写式光刻机在合肥问世
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摘要：
据《中国电子报》2008年1月1日报道,中国首台拥有完全自主知识产权的直写式光刻机在合肥面世,标志着我国亚微米级光刻机完全依赖进口的局面将被打破。光刻机是生产电子芯片的最关键设备之一,电子芯片内的电路图案都是由光刻机产生的。每一代半导体技术的发展都是以光刻线宽为代表,合肥芯硕半导体(中国)有限公司此次研制的直写式光刻机,操作便捷、运行成本低,特别是生产的直写式光刻机分辨率达到亚微米级。与目前国际上同类产品相比,已经达到了世界领先水平。国产首台直写式光刻机在合肥问世$《集成电路通讯》编辑部
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文献信息
| 篇名 | 国产首台直写式光刻机在合肥问世 | ||
| 来源期刊 | 集成电路通讯 | 学科 | 工学 |
| 关键词 | |||
| 年，卷（期） | jcdltx_2008,（1） | 所属期刊栏目 | |
| 研究方向 | 页码范围 | ||
| 页数 | 1页 | 分类号 | TN305 |
| 字数 | 语种 | ||
| DOI | |||
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相关学者/机构
期刊影响力
集成电路通讯
主办单位：
中国兵器工业第214研究所
出版周期：
季刊
ISSN：
CN：
开本：
大16开
出版地：
安徽省蚌埠市06信箱
邮发代号：
创刊时间：
1983
语种：
chi
出版文献量（篇）
868
总下载数（次）
16
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