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退火对SOI材料电阻率的影响
退火对SOI材料电阻率的影响
作者:
程新利
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SOI材料
退火
电阻率
摘要:
在SIMOX SOI材料外延生长硅层时,存在电阻率较高的过渡层.对衬底研究表明,SOI层呈现高阻.采取不同温度对衬底进行退火,结果表明:合适的温度退火可以明显降低SOI层电阻率,对外延硅层后的SOI材料进行退火,也可以部分降低外延层电阻率,减少外延层中高阻层厚度.
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(/年)
文献信息
篇名
退火对SOI材料电阻率的影响
来源期刊
苏州科技学院学报(自然科学版)
学科
工学
关键词
SOI材料
退火
电阻率
年,卷(期)
2008,(2)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
6-10
页数
5页
分类号
O738|TN304.9
字数
3007字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1672-0687.2008.02.002
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
程新利
苏州科技学院数理学院
15
10
2.0
3.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
SOI材料
退火
电阻率
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
苏州科技大学学报(自然科学版)
主办单位:
苏州科技大学
出版周期:
季刊
ISSN:
2096-3829
CN:
32-1871/N
开本:
大16开
出版地:
江苏省苏州市科锐路1号
邮发代号:
创刊时间:
1984
语种:
chi
出版文献量(篇)
1299
总下载数(次)
2
总被引数(次)
3228
期刊文献
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