挡板对电弧离子镀TiN薄膜性能的影响

• 作者: 傅涛 向兴华 邱万奇 陈灵
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 离子镀 挡板 TiN薄膜 大颗粒
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 表面改性技术
• 页码范围: 41-43
• 页数: 3页
• 分类号: O484|TG174.444
• 字数: 2189字
• 语种: 中文

摘要

在传统离子镀电弧靶前安装挡板,用镜面抛光Si(100)片作基体,对有/无挡板时沉积的TiN薄膜的大颗粒分布和性能进行了研究.结果表明,在挡板影响区域,大颗粒最大直径由无挡板时16 μm降低至2 μm,大颗粒密度从2.3×105 mm-2降低至1.4×103 mm-2;挡板影响区外,大颗粒密度变化不显著.加挡板后TiN薄膜的硬度降低,挡板影响区外降低10%,影响区内降低25%.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈灵	华南理工大学机械工程学院	29	99	6.0	8.0
2	邱万奇	华南理工大学机械工程学院	67	339	9.0	15.0
3	向兴华	华南理工大学机械工程学院	36	515	11.0	22.0
4	傅涛	华南理工大学机械工程学院	3	9	1.0	3.0