PLD制备LiMn2O4薄膜及参数对薄膜微观结构的影响

• 作者: 刘德生 叶志清 姜迪友 欧阳小芳 雷敏生
• 来源期刊: 江西科学
• 关键词: 脉冲激光沉积 薄膜 锂离子电池
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 204-207,318
• 页数: 5页
• 分类号: O484.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3679.2008.02.008

摘要

用脉冲激光沉积(PLD),分别在不锈钢和单晶硅(111)衬底上生长了LiMn2O4薄膜,并对所生长LiMn2O4薄膜的结构进行了研究.结果发现,生长在不锈钢衬底上的薄膜具有粗糙的表面和随机的结晶取向,生长在单晶硅衬底上的薄膜具有相对光滑的表面,并具有明显的(111)方向上的择优取向.还研究了脉冲频率和总脉冲数对薄膜生长的影响,结果显示,在相同的沉积条件下,对于不同衬底,LiMn2O4薄膜的生长率不同;脉冲频率对薄膜生长的影响明显,在相同总脉冲数情况下,脉冲频率大,薄膜生长率明显增大.