纳米晶结构NiOx薄膜Li+致色性能研究

• 作者: 李剑锋 李国卿 王丽阁 马明涛
• 来源期刊: 真空
• 学科: 物理学
• 关键词: 电致变色 NiOx薄膜 磁控溅射 纳米晶
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 17-20
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2366字
• 语种: 中文

摘要

采用中频孪生非半衡磁控溅射方法制备了纳米晶结构NiOx电致变色薄膜.原子力显微镜(AFM)、掠入射X射线衍射(GID)、X射线反射(XRR)分析薄膜结构、形貌及薄膜厚度;利用电化学设备、紫外分光光度计等手段测试薄膜循环伏安及光谱特性.结果表明:沉积获得NiOx薄膜质地均匀,晶粒尺寸约为4.5 nm,薄膜表面粗糙度Ra=1.659 nm;以Li+离子为致色粒子,厚度60nm的NiOx薄膜在±3 V的高驱动电压下薄膜对可见光透过率凋制范围达30%以七,电致变色性能较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李国卿	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	58	411	12.0	16.0
2	李剑锋		13	42	4.0	5.0
3	王丽阁	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	7	33	3.0	5.0