等离子显示屏制作中的曝光技术

• 作者: 田玉民 罗向辉
• 来源期刊: 显示器件技术
• 学科: 工学
• 关键词: 曝光量 间隙 照度 母版 等离子显示屏(PDP)
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 页码范围: 23-27
• 页数: 5页
• 分类号: TN873.94

摘要

随着等离子显示屏制作技术的逐渐成熟，光刻技术在等离子显示屏的制作中也越来越重要了。本文论述了在等离子显示屏制作中影响曝光质量的相关因素，从曝光的主要影响因素进行分析阐述，并结合实例进行了分析论证。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	田玉民		4	0	0.0	0.0
2	罗向辉		2	0	0.0	0.0