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摘要:
为探讨采用飞秒激光直接刻写样品取代传统光刻掩膜版方式来实现微机电系统(MEMS)加工短流程工艺的可行性,采用中心波长为800nm、脉宽为50fs的激光对100硅片(薄膜为350nm~500nm厚的氮化硅)进行实验,分析了飞秒激光材料加工特性.分析和实验结果表明,飞秒激光比纳秒、皮秒激光更适用于短流程工艺.MEMS加工短流程工艺减少了加工流程,缩短了加工周期.通过对激光脉冲能量和平台移动速度的控制可实现精确微加工.
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文献信息
篇名 飞秒激光实现微机电系统加工短流程工艺
来源期刊 激光技术 学科 工学
关键词 激光技术 短流程工艺 飞秒激光 微机电系统 微加工
年,卷(期) 2008,(1) 所属期刊栏目 激光与光电子技术应用
研究方向 页码范围 88-91
页数 4页 分类号 TG665|TN249
字数 3474字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 史铁林 华中科技大学武汉光电国家实验室 192 2245 25.0 38.0
2 熊良才 华中科技大学武汉光电国家实验室 28 380 11.0 18.0
3 王建中 华中科技大学武汉光电国家实验室 9 31 4.0 5.0
传播情况
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期刊影响力
激光技术
双月刊
1001-3806
51-1125/TN
大16开
四川省成都市238信箱
62-74
1971
chi
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4090
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10
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25972
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