纳米二氧化硅的制备与表征

• 作者: 孙道兴
• 来源期刊: 纳米科技
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米二氧化硅 化学沉淀法 分散剂 硅溶胶
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 纳米加工工艺
• 页码范围: 35-39
• 页数: 5页
• 分类号: TB34
• 语种: 中文

摘要

以碱性硅溶胶和无机酸为原料,以水和甲醇为反应介质,加入适宜的分散剂,反应体系在适宜的反应温度和pH值下反应一定时间,经过真空脱水干燥和超细筛分得到稳定的纳米二氧化硅粉体.该方法的最佳工艺条件是:反应温度为50℃、pH=7.5～8.0、反应体系的浓度为10～20%、反应时间为45min.实验结果表明:制得纳米SiO2粉体的粒径为20～40nm,比表面积大、分散性好,纯度在99%以上.该方法工艺简单、实用性强,适宜工业化生产.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙道兴	青岛科技大学环境与安全学院	107	968	17.0	24.0