磁控溅射镍膜及其性能的研究

• 作者: 于子龙 余凤斌 夏祥华 耿秋菊
• 来源期刊: 绝缘材料
• 关键词: 磁控溅射 薄膜 Ni
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 性能研究
• 页码范围: 57-59,63
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4|TM91.14.42
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-9239.2008.02.016

摘要

采用磁控溅射法在聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)基材上制备了镍薄膜.用扫描电子显微镜(SEM)分析溅射功率、溅射真空室气压等工艺参数对镍薄膜表面形貌的影响;研究了溅射工艺参数与薄膜性能之间的关系.实验结果表明,在室温下,随着溅射气压的增加,沉积速率和粒径都是先增加后又逐渐变小,而薄膜的电阻则随着压强的增大先减小后逐步增大;薄膜的表面粗糙度随着溅射功率的增加而增大;膜层与基材的剥离强度较大且均匀,膜层结合较为牢固,薄膜的耐摩擦性能较为优良.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	余凤斌		19	153	7.0	11.0
2	耿秋菊		4	48	4.0	4.0
3	夏祥华		11	90	5.0	9.0
4	于子龙	西北工业大学材料学院	6	35	3.0	5.0