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声表面波器件电子束淀积Al膜研究
声表面波器件电子束淀积Al膜研究
作者:
孙娟
徐海林
蒋海涛
赵晓红
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
声表面波器件
Al膜
电子束淀积
均匀性
准确性
摘要:
研究了声表面波器件研制过程中铝膜厚度准确控制技术及Al膜均匀性提高的技术.由理论分析推导出片架上的各点膜厚分布.根据片架各点的膜厚分布及蒸发空间场分布,设计所需的各项参数;计算出调整板的形状、调整板位置以及灯丝位置等参数对蒸发均匀性的影响.通过调整挡板位置和结构,调整灯丝位置及改进蒸发源参数,形成点蒸发源和微小面源模式,提高了Al膜厚度均匀性,工艺调整后的Al膜厚度偏差小于2%,提高了生产率.结果表明,批生产线的Al膜蒸发工艺成熟可靠.
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内容分析
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相关学者/机构
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
声表面波器件电子束淀积Al膜研究
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
声表面波器件
Al膜
电子束淀积
均匀性
准确性
年,卷(期)
2008,(6)
所属期刊栏目
显微、测量、微细加工技术与设备
研究方向
页码范围
366-369
页数
4页
分类号
TN305.8
字数
2079字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1671-4776.2008.06.012
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
徐海林
4
53
3.0
4.0
2
蒋海涛
2
1
1.0
1.0
3
孙娟
2
1
1.0
1.0
4
赵晓红
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传播情况
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引文网络
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引证文献
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
声表面波器件
Al膜
电子束淀积
均匀性
准确性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
总被引数(次)
16974
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