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摘要:
研究了声表面波器件研制过程中铝膜厚度准确控制技术及Al膜均匀性提高的技术.由理论分析推导出片架上的各点膜厚分布.根据片架各点的膜厚分布及蒸发空间场分布,设计所需的各项参数;计算出调整板的形状、调整板位置以及灯丝位置等参数对蒸发均匀性的影响.通过调整挡板位置和结构,调整灯丝位置及改进蒸发源参数,形成点蒸发源和微小面源模式,提高了Al膜厚度均匀性,工艺调整后的Al膜厚度偏差小于2%,提高了生产率.结果表明,批生产线的Al膜蒸发工艺成熟可靠.
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内容分析
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文献信息
篇名 声表面波器件电子束淀积Al膜研究
来源期刊 微纳电子技术 学科 工学
关键词 声表面波器件 Al膜 电子束淀积 均匀性 准确性
年,卷(期) 2008,(6) 所属期刊栏目 显微、测量、微细加工技术与设备
研究方向 页码范围 366-369
页数 4页 分类号 TN305.8
字数 2079字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1671-4776.2008.06.012
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 徐海林 4 53 3.0 4.0
2 蒋海涛 2 1 1.0 1.0
3 孙娟 2 1 1.0 1.0
4 赵晓红 1 0 0.0 0.0
传播情况
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研究主题发展历程
节点文献
声表面波器件
Al膜
电子束淀积
均匀性
准确性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
月刊
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大16开
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1964
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