热处理温度对化学溶液沉积GdBiO3薄膜生长的影响

• 作者: 孙瑞萍 木丽云 李果 王文涛 王祖强 白云强 蒲明华 赵勇
• 来源期刊: 低温与超导
• 学科: 工学
• 关键词: 化学溶液沉积法 GdBiO3外延薄膜 REBCO涂层导体
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 超导技术
• 页码范围: 36-39
• 页数: 4页
• 分类号: TB6
• 字数: 2027字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-7100.2008.04.010

摘要

以铋、钆的硝酸盐等制备前驱溶胶体系,用CSD法在SrTiO3(100)基底上制备出c轴织构良好的可作为涂层导体缓冲层的GdBiO3(GBO)薄膜.首先利用差热分析的结果对GBO薄膜分解过程的吸、放热情况进行了研究,确定了较为适当的有机物分解工艺.在此基础上研究了不同外延成相热处理温度对GBO薄膜生长的影响,并对较高温度处理后样品产生裂纹的原因进行了初步分析.GBO薄膜的相组成和微结构利用XRD和SEM进行分析.研究结果表明,在Ar气氛中适宜于GBO薄膜生长的最佳温度在770℃度附近,在此条件下可以制备出表面平整致密的GBO薄膜.