环境半导体Ca2Si薄膜制备及椭偏光谱研究

• 作者: 余志强 杨吟野 肖清泉 谢泉 赵珂杰
• 来源期刊: 湖南工程学院学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 环境半导体 Ca2Si薄膜 磁控溅射 椭偏光谱
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 机械工程
• 页码范围: 37-39
• 页数: 3页
• 分类号: TP211+.5
• 字数: 2215字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-119X.2008.04.010

摘要

采用磁控溅射系统成功地制备出了环境半导体Ca2Si薄膜,并对制备出的Ca2Si薄膜进行了椭偏光谱测量研究,得到了不同退火温度下Ca2Si薄膜的光学常数谱.结果表明,Ca2Si薄膜的折射率在4.3 eV附近取得极小值,其消光系数在3.3 eV附近取得极大值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	谢泉	贵州大学电子科学与信息技术学院	133	486	12.0	17.0
2	余志强	贵州大学电子科学与信息技术学院	10	38	4.0	6.0
3	肖清泉	贵州大学电子科学与信息技术学院	40	199	7.0	13.0
4	杨吟野	贵州大学电子科学与信息技术学院	6	3	1.0	1.0
5	赵珂杰	贵州大学电子科学与信息技术学院	6	44	4.0	6.0