直流磁控溅射电源研制及输出特性研究

• 作者: 巩春志 曹珍恩 杨士勤 田修波
• 来源期刊: 真空
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 电源 全桥变换 恒流
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 自动控制
• 页码范围: 70-73
• 页数: 4页
• 分类号: TB43|TP274
• 字数: 2903字
• 语种: 中文

摘要

磁控溅射技术在薄膜制备领域广泛应用,电源是磁控溅射镀膜的关键设备之一.本文介绍了全桥逆变直流磁控溅射电源主电路和控制电路的设计,该电源输出功率2 kW,采用PI恒流控制,具有过流保护.通过阻性负载测试表明电源具有很好恒流特性,在输出功率超过400 W时电源效率比较高.利用氮气/氩气不锈钢靶直流磁控溅射实际的等离子体负载测试表明:在保证真空室内压力不变的前提下,随着氮气比例的增加,电压下降,但电源恒流效果好,工作稳定.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	巩春志		69	320	9.0	14.0
2	田修波		106	515	11.0	17.0
6	曹珍恩		2	32	2.0	2.0