基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱在聚合物表征中的应用

• 作者: 王晓青 陈栓虎
• 来源期刊: 质谱学报
• 学科: 化学
• 关键词: 基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱 聚合物 分子量 末端基
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 51-59
• 页数: 9页
• 分类号: O657.63
• 字数: 5756字
• 语种: 中文

摘要

综述了基质辅助激光解吸电离飞行时间质谱(MALDI-TOF MS)的基本原理,基质选择和样品制备方法、分析离子化试剂等因素对实验结果的影响,以及造成质量歧视的原因.并阐述了MALDI技术在确定聚合物相对分子质量分布,聚合物末端基团,共聚物组成和推断反应及降解机理上的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈栓虎	西北大学化学系	47	369	11.0	17.0
2	王晓青	西北大学化学系	1	24	1.0	1.0