退火温度对TiO2薄膜结构、组分和光学性能的影响

• 作者: 周明飞 孙兆奇 孟凡明 宋学萍
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 TiO22薄膜 退火 光学性能
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 411-416
• 页数: 6页
• 分类号: O484
• 字数: 4655字
• 语种: 中文

摘要

利用射频磁控溅射,在硅和石英基底上制备了厚度为150 nm的TiO2薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、X射线光电子能谱仪(XPS)、紫外可见分光光度计(UV-vis)和光致发光谱(PL)等多种测试分析技术,研究退火温度对TiO2薄膜结构、组分及光学性能的影响.研究结果表明,未退火薄膜为无定型结构;随着退火温度的升高薄膜的金红石相含量逐渐增加,并沿(110)晶面择优取向.能隙也由退火前的3.03 eV逐渐增加到900℃退火后的3.18eV.对于TiO2薄膜催化活性最优的退火温度应为800℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宋学萍	安徽大学物理与材料科学学院	63	367	10.0	14.0
2	孙兆奇	安徽大学物理与材料科学学院	91	563	11.0	16.0
3	孟凡明	安徽大学物理与材料科学学院	46	205	9.0	12.0
4	周明飞	安徽大学物理与材料科学学院	6	62	4.0	6.0