四氯化硅在西门子多晶硅生产流程内部的循环利用

• 作者: 丁国江 汪光裕 艾波
• 来源期刊: 东方电气评论
• 学科: 工学
• 关键词: 四氯化硅 循环利用
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 光伏发电
• 页码范围: 70-72
• 页数: 3页
• 分类号: TM914.4
• 字数: 3006字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9006.2008.04.016

摘要

笔者之一曾在1982年发表<SiCl4氢化反应的探索>的热力学分析的文章,结合近期国内多晶硅产业蓬勃发展的新形势和对西门子法工艺主要副产物SiCl4有效利用的迫切需要,本文试图探索四氯化硅在西门子法多晶硅生产流程中循环利用的可能途径.