化学镀方法制备钯/多孔TiAl合金复合膜

• 作者: 武治锋 江垚 汤烈明 贺跃辉 陈慕容
• 来源期刊: 粉末冶金材料科学与工程
• 关键词: 化学镀 TiAl合金 钯膜
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 工艺技术
• 页码范围: 115-119
• 页数: 5页
• 分类号: TG153.19
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-0224.2008.02.010

摘要

通常采用无机膜分离技术中的钯合金膜扩散法制备超高纯氢(99.999%以上).因此,研究高性能钯合金膜具有很大的现实意义.该文作者采用化学镀的方法,在TiAl多孔材料表面上成功地镀上一层钯膜;运用XRD和SEM等测试手段,对TiAl多孔材料载体和钯膜进行表征.研究表明,采用化学镀方法制备钯/多孔TiAl合金复合膜,过程不需要活化,TiAl多孔材料载体表面的钯膜厚度为10～15 μm,与载体之间结合良好;该复合膜具有较好的选择透过性,在压差△P=0.18 MPa及500℃条件下,其选择性大于120,通量为0.29 mol/(m2.s).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	贺跃辉	中南大学粉末冶金国家重点实验室	295	3508	29.0	41.0
2	陈慕容	中南大学粉末冶金国家重点实验室	7	33	3.0	5.0
3	江垚	中南大学粉末冶金国家重点实验室	50	487	14.0	19.0
4	武治锋	中南大学粉末冶金国家重点实验室	4	39	3.0	4.0
5	汤烈明	中南大学粉末冶金国家重点实验室	3	31	3.0	3.0