化学发光新体系在药物分析中的应用研究进展

• 作者: 孙秀新 杨宇龙 闫国婷
• 来源期刊: 河北工业科技
• 学科: 工学
• 关键词: 化学发光分析 药物分析 研究进展
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 综述与述评
• 页码范围: 255-258
• 页数: 4页
• 分类号: TQ460.7
• 字数: 2095字
• 语种: 中文

摘要

化学发光分析是根据化学发光反应产生的光辐射确定物质含量的一种痕量分析方法.针对化学发光分析灵敏度高、线性范围宽、分析速度快等优点,介绍了近年来化学发光新体系(无机氧化剂)在药物分析中的应用研究进展.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙秀新	河北科技大学理学院	10	60	4.0	7.0
2	闫国婷	河北科技大学理学院	2	23	2.0	2.0
3	杨宇龙	河北科技大学理学院	6	12	2.0	3.0