石墨表层对四面体非晶炭膜中受激电子的石墨建序化作用

• 作者: Koji Maeda Kunie Ishioka Masahiro Kitajima Shik Shin Tatsuya Banno Yoshihisa Harada Yoshinori Kitajima Yutaka Mera 梁士金
• 来源期刊: 新型炭材料
• 学科: 工学
• 关键词: 炭膜 表面 等离子体 石墨化
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 241-244
• 页数: 4页
• 分类号: TQ127.1+1
• 字数: 285字
• 语种: 中文

摘要

对渗气阴极真空电弧法制备的四而体非晶炭(ta-c)膜实施氧等离子体刻蚀,消除其表面石墨层后,发现:原沉积膜中ta-C石墨表层的消除会影响其受激电子的石墨建序化.应用发射电子能耗谱,表面增强拉曼光谱和表面敏化X光吸收光谱等测量方法,测定了其表层的淌除(程度).样品的氧等离子体刻蚀阻迟了受激电子的石墨化作用,可能归因于多相成核过程中石墨晶核的缺失之故.