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SiO2含量对硼硅酸盐——锂辉石玻璃性能的影响
SiO2含量对硼硅酸盐——锂辉石玻璃性能的影响
作者:
包启富
董伟霞
顾幸勇
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
SiO2
硼硅酸盐-锂辉石玻璃
低烧
低介
摘要:
主要以SiO2含量对硼硅酸盐一锂辉石玻璃性能进行了研究,通过调整配比,得出一种低烧、低介的性能优良的玻璃粉末.当硅含量为80.95(摩尔比)的介电常数ε为4.3,介质损耗tgδ为1×10-3 ,该玻璃的软化温度为665℃.
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文献信息
篇名
SiO2含量对硼硅酸盐——锂辉石玻璃性能的影响
来源期刊
真空电子技术
学科
工学
关键词
SiO2
硼硅酸盐-锂辉石玻璃
低烧
低介
年,卷(期)
2008,(3)
所属期刊栏目
工艺与应用
研究方向
页码范围
48-50
页数
3页
分类号
TB756
字数
1966字
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1002-8935.2008.03.013
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
顾幸勇
149
765
14.0
21.0
2
董伟霞
180
331
8.0
10.0
3
包启富
152
354
9.0
12.0
传播情况
被引次数趋势
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2008(0)
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研究主题发展历程
节点文献
SiO2
硼硅酸盐-锂辉石玻璃
低烧
低介
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
真空电子技术
主办单位:
北京真空电子技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-8935
CN:
11-2485/TN
开本:
大16开
出版地:
北京749信箱7分箱
邮发代号:
创刊时间:
1959
语种:
chi
出版文献量(篇)
2372
总下载数(次)
7
总被引数(次)
8712
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