等离子体浸没离子注入(PⅢ)在材料表面改性中的应用及发展

• 作者: 陈惠敏
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 常规束线离子注入 等离子体浸没离子注入 等离子鞘 表面改性
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 综述·专论
• 页码范围: 79-81
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.444
• 字数: 4443字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.05.027

摘要

等离子体浸没离子注入(PⅢ)是一种用于材料表面改性的新的离子注入技术.系统地分析和讨论了等离子体浸没离子注入技术的原理和特点:该技术直接将待处理材料浸没在等离子体中进行注入,保留了常规束线离子注入(CBⅡ)技术的主要特点,消除了常规束线离子注入所固有的视线限制,克服了保持剂量问题,使注入装置变得简单和价廉.综述了等离子体浸没离子注入技术在金属材料、半导体材料和高分子材料改性方面的应用.展示了等离子体浸没离子注入技术应用的发展前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈惠敏		13	31	3.0	5.0