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摘要:
本文用脉冲激光沉积(PLD)法在SiO2基片上制备了ZnO薄膜和Zn1-xMnxO薄膜.X射线衍射、原子力显微镜、紫外-可见光分光光度计对ZnO薄膜的测试结果表明:薄膜具有(103)面的择优取向,表面比较平坦;SiO2基片上制备的薄膜在387 nm附近存在明显的吸收边,且薄膜的吸收对基片温度变化不明显.通过对Zn1-xMnxO薄膜的吸收光谱分析得出:Mn离子的掺杂改变了ZnO薄膜的禁带宽度,随着Mn离子掺杂量的增加,薄膜禁带宽度增加;薄膜的光吸收也从直接跃迁过渡为间接跃迁.
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文献信息
篇名 脉冲激光沉积ZnO薄膜的制备及其性能研究
来源期刊 真空 学科 工学
关键词 PLD ZnO薄膜 Zn1-xMnxO薄膜 光吸收谱
年,卷(期) 2008,(5) 所属期刊栏目 薄膜
研究方向 页码范围 65-67
页数 3页 分类号 TN304.2+1
字数 2063字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 陈长乐 西北工业大学应用物理系 144 734 13.0 20.0
2 赵跃智 洛阳理工学院材料系 16 174 5.0 13.0
3 曹钦存 洛阳理工学院材料系 10 35 4.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
PLD
ZnO薄膜
Zn1-xMnxO薄膜
光吸收谱
研究起点
研究来源
研究分支
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
真空
双月刊
1002-0322
21-1174/TB
大16开
辽宁省沈阳市万柳塘路2号
8-30
1964
chi
出版文献量(篇)
2692
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3
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12898
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