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纳米多孔硅含能芯片性能研究
纳米多孔硅含能芯片性能研究
作者:
任小明
卢斌
杜云峰
薛艳
解瑞珍
原文服务方:
火工品
多孔硅含能芯片
MEMS
表征
点火
摘要:
采用MEMS(Micro-eleclromechanical Systems)工艺在硅片上加工耐HF酸掩模窗口,结合电化学腐蚀法制备出多孔硅阵列.通过扫描电镜和比表面积测试仪对多孔硅进行了性能表征,结果表明:多孔硅具有均匀的纳米尺度孔径、较大的比表面积以及良好的海绵体的结构特性.通过原位形成多孔硅含能芯片,进行了热发火和机械撞击发火试验,结果表明:在没有壳体限制条件时,纳米多孔硅含能芯片在热和机械能刺激下发生强烈点火或者爆炸.
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纳米多孔硅含能材料性能研究
物理化学
纳米多孔硅
含能材料
表征
点火
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版权信息
引文网络
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期刊文献
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数
(/次)
(/年)
文献信息
篇名
纳米多孔硅含能芯片性能研究
来源期刊
火工品
学科
关键词
多孔硅含能芯片
MEMS
表征
点火
年,卷(期)
2008,(6)
所属期刊栏目
研究报告
研究方向
页码范围
9-11
页数
3页
分类号
TJ450.4
字数
语种
中文
DOI
10.3969/j.issn.1003-1480.2008.06.003
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
卢斌
中国兵器工业第213研究所应用物理化学国家级重点实验室
11
71
5.0
8.0
2
杜云峰
中国兵器工业第213研究所应用物理化学国家级重点实验室
8
23
3.0
4.0
3
薛艳
中国兵器工业第213研究所应用物理化学国家级重点实验室
3
32
3.0
3.0
4
任小明
中国兵器工业第213研究所应用物理化学国家级重点实验室
2
20
2.0
2.0
5
解瑞珍
中国兵器工业第213研究所应用物理化学国家级重点实验室
5
32
3.0
5.0
传播情况
被引次数趋势
(/次)
(/年)
版权信息
全文
全文.pdf
引文网络
引文网络
二级参考文献
(9)
共引文献
(7)
参考文献
(2)
节点文献
引证文献
(16)
同被引文献
(21)
二级引证文献
(59)
1992(2)
参考文献(0)
二级参考文献(2)
1993(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
1998(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2001(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2002(3)
参考文献(0)
二级参考文献(3)
2003(1)
参考文献(0)
二级参考文献(1)
2004(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2005(1)
参考文献(1)
二级参考文献(0)
2008(0)
参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
2010(3)
引证文献(3)
二级引证文献(0)
2011(4)
引证文献(1)
二级引证文献(3)
2012(11)
引证文献(4)
二级引证文献(7)
2013(10)
引证文献(2)
二级引证文献(8)
2014(12)
引证文献(2)
二级引证文献(10)
2015(5)
引证文献(0)
二级引证文献(5)
2016(14)
引证文献(1)
二级引证文献(13)
2017(2)
引证文献(1)
二级引证文献(1)
2018(6)
引证文献(1)
二级引证文献(5)
2019(6)
引证文献(1)
二级引证文献(5)
2020(2)
引证文献(0)
二级引证文献(2)
研究主题发展历程
节点文献
多孔硅含能芯片
MEMS
表征
点火
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
火工品
主办单位:
中国兵器工业第213研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1003-1480
CN:
61-1179/TJ
开本:
大16开
出版地:
邮发代号:
创刊时间:
1979-01-01
语种:
chi
出版文献量(篇)
1876
总下载数(次)
0
总被引数(次)
6868
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