MOCVD法在(220)CaF2衬底上生长ZnO薄膜及其性能研究

• 作者: CHU Ben-li WANG Yin-zhen 何琴玉 徐军
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 MOCVD CaF2
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 页码范围: 849-852
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1903字
• 语种: 中文

摘要

采用金属有机化学汽相沉积(MOCVD)法在(220)CaF2衬底上外延生长ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD)、紫外-可见光谱和光致发光谱(PL)对ZnO薄膜的结构和光学性能进行了分析.XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜结晶性能良好,具有高度的(002)的择优取向,002衍射峰的半高宽(FMHM)为0.115°.所制备的ZnO薄膜透明,透过率超过85%.在常温的(He-Cd激光器)PL谱中,只有378.5 nm的带边发射.用同步辐射光源测试的真空紫外光谱中,在低温20K时,出现218 nm、368 nm、418 nm、554 nm发光峰,其中368 nm峰强度随着温度的升高强度逐渐下降,到常温时几乎消失.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何琴玉	华南师范大学物理与电信工程学院	14	399	6.0	14.0
2	WANG Yin-zhen	中国科学院上海硅酸盐研究所	1	4	1.0	1.0
3	徐军	华南师范大学物理与电信工程学院	8	304	5.0	8.0
4	CHU Ben-li	中国科学院上海硅酸盐研究所	1	4	1.0	1.0