反应气体H2O对Y2O3隔离层外延生长的影响

• 作者: 刘慧舟 张华 杨坚 金薇
• 来源期刊: 低温物理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 反应溅射 Y2O3隔离层 H2O分压 表面形貌
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 页码范围: 318-321
• 页数: 4页
• 分类号: TM2
• 字数: 2345字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-3258.2008.04.009

摘要

报道了用反应溅射的方法在有强立方织构的NiW基带上连续制备Y2O3隔离层的研究结果.用X射线θ～2θ扫描,ψ扫描对薄膜的取向和织构进行表征,用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对薄膜的表面形貌进行观察.论文主要研究了H2O分压对Y2O3隔离层外延生长以及表面形貌的影响,结果表明:H2O分压过小,Y2O3织构相对衬底有所弱化,薄膜表面不透明,原子覆盖不均匀,且不利于后续隔离层YSZ的生长.同时,临界H2O分压与温度和总气压的关系也作了详细研究.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨坚		34	201	6.0	13.0
2	刘慧舟		24	209	6.0	14.0
3	张华		20	152	5.0	12.0
4	金薇		5	40	2.0	5.0