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薄膜光刻工艺参数的优化
薄膜光刻工艺参数的优化
作者:
赵兹君
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光刻工艺
甩胶
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薄膜
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薄膜光刻工艺参数的优化
来源期刊
混合微电子技术
学科
工学
关键词
光刻工艺
甩胶
曝光
线宽
薄膜
年,卷(期)
2008,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
27-31
页数
5页
分类号
TN305.7
字数
语种
中文
DOI
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姓名
单位
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赵兹君
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光刻工艺
甩胶
曝光
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薄膜
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研究来源
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引文网络交叉学科
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期刊影响力
混合微电子技术
主办单位:
中国电子集团公司第四十三研究所
出版周期:
季刊
ISSN:
CN:
开本:
出版地:
安徽省合肥市6068信箱(合肥市绩溪路260号)
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创刊时间:
语种:
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1458
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