APS等离子体离子辅助沉积薄膜工艺

• 作者: 司阿利 闫凯
• 来源期刊: 航空兵器
• 学科: 工学
• 关键词: 离子镀膜 薄膜工艺 等离子源辅助沉积 工艺参数
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 红外与激光技术
• 页码范围: 35-38
• 页数: 4页
• 分类号: TN205|TJ760.5
• 字数: 3231字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-5048.2008.02.009

摘要

阐述了APS等离子体离子辅助沉积(PIAD)在光学镀膜中的应用,通过分析APS等离子源辅助沉积过程中离子束的能量传递过程,讨论了各种工艺条件对离子柬辅助沉积薄膜特性的影响,给出了APS等离子源辅助沉积薄膜工艺选择的准则.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闫凯		6	6	2.0	2.0
2	司阿利		2	3	1.0	1.0