化学还原法制备六方B-C-N化合物

• 作者: 于栋利 吴庆华 孙广 胡前库
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 化学
• 关键词: 六方 B-C-N 化合物 化学还原法合成 XRD 电子能量损失谱
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1067-1069
• 页数: 3页
• 分类号: O613
• 字数: 2565字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.05.041

摘要

采用氰尿酰氯和三溴化硼为原料,金属钠为还原剂,通过化学还原法在450℃合成了B-C-N化合物.利用X射线衍射(XRD),透射电子显微镜(TEM),选区电子衍射(SAED),电子能量损失谱(EELS)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)对合成的样品进行了表征.分析结果表明,所合成的B-C-N化合物具有六方多晶结构,其成分为B0.5C0.07N0.43.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙广	河南理工大学材料科学与工程学院	14	59	5.0	7.0
2	吴庆华	河南理工大学材料科学与工程学院	6	43	3.0	6.0
3	胡前库	河南理工大学材料科学与工程学院	20	83	5.0	8.0