AR/EMI显示窗口的模拟设计

• 作者: 吕国强 徐涛 胡俊涛
• 来源期刊: 现代显示
• 学科: 工学
• 关键词: 减反射/电磁屏蔽 氧化铟锡 膜系设计
• 年，卷（期）: 2008,（11）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 45-49
• 页数: 5页
• 分类号: TN141
• 字数: 4148字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-6268.2008.11.010

摘要

在航空航天等军用领域中,存在强光和电磁干扰等环境影响因素,为了使显示器能够在这种恶劣环境下稳定可靠工作,需要对显示器进行AR/EMI(减反射/电磁屏蔽)加固.本文通过对ITO电磁屏蔽层与AR(减反)膜系进行综合设计,并利用光学薄膜设计软件TFCalc对几种不同的结构进行了模拟仿真.结果使AR/EMI显示窗口在方块电阻为12Ω的同时可见光部分的平均反射率达到了0.73%,从而解决了显示终端的眩光效应,克服了环境光对操作者眼睛造成的不适,并增强了显示器的电磁屏蔽性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕国强		99	528	12.0	17.0
10	徐涛		9	82	5.0	9.0
12	胡俊涛		2	13	2.0	2.0