射频磁控溅射ZnO薄膜的微结构与光学特性

• 作者: 孙仲亮 孙兆奇 孟凡明 黄飞
• 来源期刊: 真空电子技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 射频磁控溅射 ZnO薄膜 微结构 光学性能
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与设计
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 1931字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-8935.2008.02.001

摘要

研究了膜厚对ZnO薄膜微结构和光学性能的影响.采用射频磁控溅射法在单晶硅(111)和玻璃基片上制备了不同厚度的ZnO薄膜.通过X射线衍射、原子力显微镜和紫外可见光谱对薄膜进行了表征.结果表明薄膜结晶性能良好,在(002)晶面具有明显的c轴取向.随着薄膜厚度的增加,透射率下降,吸收边红移,禁带宽度逐渐减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙兆奇	安徽大学物理与材料科学学院	91	563	11.0	16.0
2	孟凡明	安徽大学物理与材料科学学院	46	205	9.0	12.0
3	黄飞	安徽大学物理与材料科学学院	6	32	4.0	5.0
7	孙仲亮	安徽大学物理与材料科学学院	1	6	1.0	1.0