掩膜成像法在LiNbO3:Fe晶体制作缺陷态光子晶格

• 作者: 付存宝 何冬梅 崔俊杰 张宝光 杨立森 陈宝东
• 来源期刊: 信息记录材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 掩膜成像法 LiNbO3:Fe晶体 缺陷 光子晶格 分立度
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 16-20
• 页数: 5页
• 分类号: O434.19
• 字数: 2718字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1009-5624.2008.05.003

摘要

在用掩膜法制作光子晶格的实验中,我们分别在薄、厚LiNbO3:Fe晶体中成功地制作了带有缺陷的(2+1)维光折变光子晶格且比较了二者的异同,并结合透镜成像的相关理论找出了造成这些异同的因素,又对这些因素做了详细的分析,这对更好的利用掩膜成像法制作光折变光子晶格有一定的指导意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨立森	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	58	264	8.0	13.0
2	崔俊杰	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	13	52	4.0	6.0
3	张宝光	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	20	73	6.0	7.0
4	付存宝	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	9	19	3.0	4.0
5	何冬梅	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	4	6	2.0	2.0
6	陈宝东	内蒙古师范大学物理与电子信息学院	14	70	6.0	7.0