AlN/CrN纳米多层膜的制备及性能的研究

• 作者: 亢原彬 李德军 王晖
• 来源期刊: 天津师范大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 多弧离子镀 AlN/CrN纳米多层膜 硬度 立方氮化铝
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 27-30
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444|TG174.4
• 字数: 3632字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-1114.2008.02.008

摘要

采用多弧离子镀技术制备AlN/CrN纳米多层膜,研究了多层膜调制周期对AlN生长结构的影响以及纳米多层膜的机械性能.结果表明:在小调制周期下AlN会以立方结构存在,并与CrN层形成同结构共格外延生长,使纳米多层膜产生较大的晶格畸变;AlN/CrN纳米多层膜硬度和弹性模量随着调制周期的减小呈现上升的趋势,当调制周期小于8 nm 时其增速明显增大,并在调制周期为3.8 nm 时达到最高硬度35.0 GPa和最高弹性模量405 GPa;AlN/CrN纳米多层膜的硬度和弹性模量在小调制周期时的升高与c-AlN的产生并和CrN形成的共格结构有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李德军	天津师范大学物理与电子信息学院	73	242	7.0	11.0
2	亢原彬	天津师范大学物理与电子信息学院	7	28	3.0	5.0
3	王晖	天津师范大学物理与电子信息学院	9	20	3.0	4.0