p型ZnO薄膜的研究新进展

• 作者: 李书要 李瑜煜
• 来源期刊: 电工材料
• 关键词: ZnO p型掺杂 共掺杂
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 综述·动态
• 页码范围: 38-42
• 页数: 5页
• 分类号: TM205.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1671-8887.2008.02.010

摘要

ZnO是一种很有前途的宽带隙半导体材料,在光电器件的应用上,实现高质量的p型掺杂是其关键所在.迄今,已有大量p型掺杂ZnO薄膜的研究报道,但是要获得高质量的可重复的p型ZnO薄膜却十分困难.本文就p型ZnO薄膜的掺杂最新研究进展进行了详细论述,并展望了其制备前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李瑜煜	广东工业大学材料与能源学院	35	193	8.0	12.0
2	李书要	广东工业大学材料与能源学院	1	1	1.0	1.0