工艺参数对离子束辅助沉积TiN薄膜性能的影响

• 作者: 孙世尧 李国明 陈学群
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 铁铬钼软磁合金 离子束辅助沉积 显微硬度 耐蚀性 TiN薄膜
• 年，卷（期）: 2008,（6）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 66-68
• 页数: 3页
• 分类号: TG174.45
• 字数: 2595字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2008.06.022

摘要

为进一步提高牙科材料的生物相容性、耐磨性和耐腐蚀性能,将离子束辅助沉积制备TiN纳米薄膜技术引入到铁铬钼牙科材料的研究中,在Fe-Cr-Mo合金基体上制备了TiN薄膜.测定了表面膜层的显微硬度,在模拟口腔环境的溶液中,采用电化学方法,对经不同工艺参数沉积TiN薄膜的牙科用Fe-Cr-Mo合金的耐蚀性进行测试,并以未进行表面镀膜的Fe-Cr-Mo合金为对照.结果表明:经TiN镀膜处理的Fe-Cr-Mo软磁合金硬度明显增加,在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高.工艺参数不同,硬度增加的程度不同,耐蚀性差别也较大,当氮气流量为1.5mL/min,溅射时间为4h时,得到的膜厚为2μm,此时TiN膜硬度最高,在口腔溶液中耐腐蚀性最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈学群	海军工程大学理学院化学与材料系	47	553	14.0	21.0
2	李国明	海军工程大学理学院化学与材料系	37	212	10.0	13.0
3	孙世尧		1	2	1.0	1.0