显示技术专利摘要

• 作者: 吴铭（摘编）
• 来源期刊: 光电技术
• 学科: 工学
• 关键词: 场发射显示器 技术专利 摘要 制造方法 绝缘层 株式会社 基板 预定
• 年，卷（期）: gdjs_2008,（3）
• 页码范围: 28-32
• 页数: 5页
• 分类号: TN873

摘要

申请号：CN200510072905．0名称：场发射显示器及其制造方法申请（专利权）人：三星SDI株式会社发明（设计）人：吴泰植摘要：本发明提供了一种场发射显示器（FED）及其制造方法。该FED包括：第一基板；第一绝缘层，形成于第一基板上且具有预定高度和预定形状；阴极，形成于第一基板上以覆盖第一绝缘层，且具有凹面地形成于覆盖第一绝缘层的部分之间的第一开口；第二绝缘层，形成于第一基板和阴极上，且具有与第一开口连接且暴露部分阴极的第二开口；栅电极，形成于第二绝缘层上，且具有与第二开口连接的第三开口；发射器，形成于位于第一开口中的阴极上且沿第一开口的两边设置以彼此隔开预定距离；和第二基板，设置得以预定距离面对第一基板，