磁过滤阴极弧制备四面体非晶碳膜热稳定性研究

• 作者: 刘安东 吴正龙 廖斌 张旭 覃礼钊
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 热稳定性 磁过滤阴极弧沉积 ta-C膜 微观结构
• 年，卷（期）: 2008,（4）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 789-793
• 页数: 5页
• 分类号: TQ050
• 字数: 2482字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2008.04.031

摘要

为研究磁过滤阴极弧制备的四面体非晶碳(tetrahedral amorphous carbon,ta-C)膜在自然环境中使用的热稳定性,将ta-C膜在空气中退火3h,退火温度分别为200、400和500°C.用XPS和Raman谱对膜的微观结构进行表征.结果表明,在400及400°C以下退火,XPS谱C1s峰和Raman谱都没有明显变化.当退火温度为500°C时,C1s峰峰形仍然没有变化;Raman 峰 ID/IG增大,G峰峰位末变,峰的对称性变好.分析显示膜中石墨颗粒长大,但没有发生石墨化.说明磁过滤阴极弧制备的ta-C膜因不含氢和结构致密而表现出良好的热稳定性.另外,在退火温度为500°C时,样品边缘已经氧化挥发.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴正龙	北京师范大学分析测试中心	41	276	7.0	15.0
2	刘安东	北京师范大学低能核物理研究所	11	28	4.0	5.0
3	张旭	北京师范大学低能核物理研究所	37	208	8.0	13.0
4	覃礼钊	北京师范大学低能核物理研究所	9	59	4.0	7.0
8	廖斌	北京师范大学低能核物理研究所	27	69	4.0	7.0