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摘要:
以四异丙醇钛(TTIP)为先驱体,采用常压化学气相沉积(APCVD)法模拟镀膜工艺过程,制备出了TiO2自清洁镀膜玻璃.通过扫描电镜(SEM)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见透射光谱(UV-Vis)等手段对样品进行分析,并研究了基板温度和移动速率与薄膜性能之间的关系.结果表明,当基板温度升高至580 ℃时,能够形成平整致密的薄膜,薄膜的结晶度,光催化性能和亲水性能也达到最好;基板移动速度下降到1.5 m/min时,薄膜的结晶度,光催化性和亲水性也可得到改善.依据光催化性能和亲水性能测试,表明沉积TiO2薄膜的最佳条件为基板温度580℃,基板速度1.5 m/min.
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铁离子
掺杂
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自洁净玻璃
光催化
降解
内容分析
关键词云
关键词热度
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文献信息
篇名 连续快速常压化学气相沉积法制备TiO2自清洁镀膜玻璃
来源期刊 真空科学与技术学报 学科 工学
关键词 TiO2 常压化学气相沉积 自清洁 镀膜玻璃
年,卷(期) 2008,(1) 所属期刊栏目 学术论文
研究方向 页码范围 16-20
页数 5页 分类号 TB321|TG146.4
字数 3157字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 韩高荣 浙江大学材料科学与工程学系 187 1971 24.0 35.0
2 翁文剑 浙江大学材料科学与工程学系 79 1088 20.0 30.0
3 宋晨路 浙江大学材料科学与工程学系 37 372 10.0 18.0
4 翁伟浩 浙江大学材料科学与工程学系 2 40 2.0 2.0
5 刘军波 浙江大学材料科学与工程学系 2 57 2.0 2.0
6 应益明 浙江大学材料科学与工程学系 3 57 2.0 3.0
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TiO2
常压化学气相沉积
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镀膜玻璃
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真空科学与技术学报
月刊
1672-7126
11-5177/TB
大16开
北京市朝阳区建国路93号万达广场9号楼614室
1981
chi
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19905
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