双层修饰玻碳电极测定在大分子污染物存在下的痕量铜(Ⅱ)

• 作者: 夏建军 尹坦姬 杨柳 高晓华 魏万之
• 来源期刊: 分析试验室
• 学科: 化学
• 关键词: Cu 伏安法 大分子污染物 化学修饰电极
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报告与简报
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: O657.1
• 字数: 3246字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0720.2008.02.001

摘要

应用选择性渗透的2-巯基乙磺酸(MES)自组装单层膜和纳米金阵列双层修饰玻碳电极,用溶出伏安法测定了在大分子污染物存在下的痕量Cu(Ⅱ).纳米金阵列的修饰显著提高了玻碳电极的分析性能,而自发吸附的选择性渗透单层膜则有效阻止了电极表面被共存的大分子污染.方法校正曲线的斜率为0.13±0.016 μA/10-9,LOD为0.137×10-9,且具有较大的线性范围.用此方法测定冶金废水中Cu2+含量,结果与AAS接近,方法具有实际应用价值.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	魏万之	湖南大学化学生物传感与计量学国家重点实验室	42	419	13.0	18.0
2	夏建军	湖南大学化学生物传感与计量学国家重点实验室	3	4	2.0	2.0
3	尹坦姬	湖南大学化学生物传感与计量学国家重点实验室	1	2	1.0	1.0