用于ICF驱动器的色分离光栅的制作

• 作者: 刘刚 田扬超 胡新宁
• 来源期刊: 微细加工技术
• 学科: 工学
• 关键词: 色分离光栅 光刻 离子束刻蚀
• 年，卷（期）: 2008,（1）
• 所属期刊栏目: 光子束技术
• 页码范围: 17-20
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2787字
• 语种: 中文

摘要

介绍了色分离光栅的设计原理,并对其制作工艺进行了研究.用套刻法以能量为450 eV、束流密度为80 mA/cm2、30°入射角的离子束对100 mm×100 mm石英基片进行刻蚀,制作出了周期为300 μm色分离光栅.实验测得零级次上3ω(351 nm)光的归一化衍射效率达到了91.9%.结果表明,这套工艺方法在制作高衍射效率的CSG是可行的,并且具有刻蚀图形分辨率高、侧壁较陡等优点,为进一步制作高衍射效率的色分离光栅提供了参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘刚	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	207	2369	24.0	40.0
2	田扬超	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	50	372	12.0	17.0
3	胡新宁	中国科学院电工研究所	18	48	4.0	6.0