CL2+SF6混合气体对Si和SiNx的离子刻蚀研究

• 作者: 李斗熙 李正勳 蒋冬华 郑载润 陈正伟
• 来源期刊: 现代显示
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子刻蚀 刻蚀速率 选择比
• 年，卷（期）: 2008,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 48-50
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 1353字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-6268.2008.03.011

摘要

采用统计实验方法研究了利用SF6+Cl2混合气体产生的等离子体进行Si和SiNx的反应离子刻蚀技术.在相同的输出功率和压力的条件下,将si和SiNx的刻蚀速率和选择比表示为SF6百分比含量的函数.文中讨论了SF6含量的变化对刻蚀速率、选择比和坡度角的影响及刻蚀机理,证实了即使是SF6含量的少量改变也会对si和SiNx的刻蚀速率、选择比和坡度角有重要的影响.并通过光谱分析来深层次地讨刻蚀速率受SF6含量影响的原因.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李正勳		3	13	2.0	3.0
2	郑载润		2	9	2.0	2.0
3	陈正伟		1	2	1.0	1.0
4	蒋冬华		1	2	1.0	1.0
5	李斗熙		5	18	2.0	4.0