两步热处理法对WO3薄膜结构及其气敏性能的影响

• 作者: 冯有才 尹英哲 李东海 胡明 陈鹏
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 纳米颗粒 三氧化钨 薄膜 热处理
• 年，卷（期）: 2008,（10）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1659-1661
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.05
• 字数: 2566字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2008.10.021

摘要

利用对靶磁控溅射的方法,在Al2O3基片上面生长WO3薄膜,并在200、300、400、600℃的空气环境中对薄膜进行了热处理,利用AFM、SEM及XRD方法观察了薄膜的表面形貌特征,分析了薄膜的性质和微观结构.根据SEM图观察可知,薄膜在退火温度为300℃时具有均匀的纳米颗粒,当再次退火温度>600℃时,观察薄膜表面形貌和颗粒结构没有任何改变,实验结果表明,当工作温度为250℃时,经过两步热处理方法制备的WO3薄膜对浓度为3×10-5的乙醇气体显示了优异的性能,通过两步热处理的方法能制备出稳定的WO3纳米薄膜结构.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈鹏	天津大学电子信息工程学院	33	223	8.0	13.0
2	胡明	天津大学电子信息工程学院	139	1336	19.0	28.0
3	冯有才	天津大学电子信息工程学院	8	46	4.0	6.0
4	尹英哲	天津大学电子信息工程学院	8	46	4.0	6.0
5	李东海	天津大学电子信息工程学院	3	21	3.0	3.0