交流阻抗技术研究巯基丙酸/中性红修饰电极上DNA的响应

• 作者: 尹凡 屠一锋 顾海芳
• 来源期刊: 苏州科技学院学报（自然科学版）
• 学科: 化学
• 关键词: 交流阻抗 巯基丙酸 中性红 DNA 嵌插作用
• 年，卷（期）: 2008,（2）
• 页码范围: 37-39,59
• 页数: 4页
• 分类号: O657.1
• 字数: 1854字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-0687.2008.02.009

摘要

中性红(NR)可吸附在巯基丙酸自组装修饰金电极表面,并进而与DNA发生嵌插作用.以交流阻抗技术研究了DNA在巯基丙酸自组装/中性红修饰电极上的响应.结果表明,交流阻抗方法不仅可以反映DNA与小分子间发生的作用,还可以对DNA进行定量分析,响应在DNA浓度为0.4～8mg·L-1范围内呈线性关系,相关系数r=0.9973,检出下限为0.03 mg·L-1.该法是一种快速、简便、廉价的研究DNA及与小分子相互作用的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	屠一锋	苏州大学化学化工学院	83	565	13.0	17.0
2	尹凡	常熟理工学院化学与材料科学系	25	68	4.0	6.0
3	顾海芳	苏州大学化学化工学院	1	2	1.0	1.0