成像器件紫外增强薄膜技术研究进展

• 作者: 倪争技 庄松林 张大伟 田鑫 黄元申
• 来源期刊: 激光杂志
• 学科: 物理学
• 关键词: 成像 薄膜 紫外
• 年，卷（期）: 2008,（5）
• 所属期刊栏目: 综合评述
• 页码范围: 9-10
• 页数: 2页
• 分类号: O433.2
• 字数: 2790字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.0253-2743.2008.05.003

摘要

简述了用于成像器件紫外增强方面的薄膜技术研究进展.讨论了成像器件对紫外响应弱的原因,介绍了紫外增强的方案.重点介绍了有机和无机两类变频膜的材料涮备方法和性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟	上海理工大学光电学院	117	391	11.0	15.0
2	庄松林	上海理工大学光电学院	199	1335	20.0	29.0
3	田鑫	上海理工大学光电学院	9	34	3.0	5.0
4	黄元申	上海理工大学光电学院	56	348	11.0	16.0
5	倪争技	上海理工大学光电学院	43	341	12.0	17.0